关键词: 溅射靶材
中商情报网讯:溅射靶材是指通过磁控溅射等镀膜系统在适当工艺条件下溅射沉积在基板上形成各种功能薄膜的溅射源。溅射靶材广泛应用于半导体集成电路、平面显示、太阳能电池、信息存储、低辐射玻璃等领域,是国家重点支持和鼓励发展的行业。
中商产业研究院发布的《2025-2030年中国溅射靶材行业前景与市场趋势洞察专题研究报告》显示,2025年中国溅射靶材市场规模约为33.65亿元。中商产业研究院分析师预测,2026年中国溅射靶材市场规模将增至38亿元。

数据来源:SEMI、中商产业研究院整理
总体来看,中国溅射靶材龙头企业已形成差异化与平台化并进的产业格局。第一梯队企业如江丰电子、有研新材等,凭借在超高纯金属材料领域的深厚积累,已成功切入全球半导体先进制程供应链,并积极向半导体精密零部件等关联领域拓展,构建平台化竞争力。第二梯队企业则在显示面板、光伏、光学等细分市场建立优势,并通过产品多元化布局新兴赛道以对冲行业周期。整体行业正从单一材料供应商向提供“材料+工艺解决方案”的综合服务商转型,国产化替代与向高附加值领域延伸成为共同的发展主线。

资料来源:中商产业研究院整理
来源:中商产业研究院