消息称三星显示、LG Display正为苹果产品OLED面板开发新工艺

11月3日，据韩媒The Elec报道，苹果显示屏供应商三星显示和LG Display正在研发新型OLED面板制造工艺。

苹果在开发将应用于下一代OLED面板的高迁移率氧化物（HMO）技术时，虽优先考虑采用溅射工艺方案，但仍未确定最终量产路径。因此，三星显示和LG Display正同时开发溅射与原子层沉积（ALD）两种工艺方案。

HMO技术核心在于提升驱动像素开关及调节亮度的薄膜晶体管（TFT）性能，旨在将现有氧化物TFT约10 cm2/Vs的电子迁移率大幅推升至30至50cm2/Vs；因电子迁移率大幅提高后可供给更大电流，将直接助力高分辨率与高刷新率屏幕的实现。

溅射与ALD均为构建TFT半导体薄膜的技术：溅射工艺利用等离子体剥离固体材料沉积于基板，可复用现有产线设备，但要同时确保高电子迁移率与可靠性，还需改善材料组成和薄膜结构。ALD虽能以原子层为单位精确调控厚度与组分、确保半导体层电学稳定性，但设备购置与前驱体原料成本高昂；鉴于此，苹果正重点评估成本优势更佳的溅射方案可行性。

HMO被认为是未来将应用于MacBook、iMac等高分辨率IT用OLED的候选技术。现有高端OLED采用将硅和氧化物半导体结合使用的低温多晶硅氧化物（LTPO）技术。若HMO性能足够高，便可用氧化物替代部分硅工艺。如此一来，制造工序得以简化，生产成本也可降低。

三星显示对上述两种工艺的推进，目前聚焦于验证能否在大型基板上稳定实现苹果所要求的电子迁移率与可靠性指标。据悉，苹果在台湾自有研发（R&D）设施审查HMO相关技术后，向三星显示提议确认其在第8代大尺寸工艺的应用可能性。

LG Display则在第6代OLED产线上开发基于溅射工艺的HMO技术，并同时验证ALD工艺。去年，公司通过ALD制备的氧化物TFT获得了约40 cm2/Vs的电子迁移率，并公开了应用该器件的OLED样品。不过据了解，考虑到追加设备投资负担，其更倾向于利用现有溅射设备的方案。

HMO技术产业化核心难点在于，相关器件不仅要在实验室阶段获得高迁移率，更须经受后续多道制造工序以及严苛光热环境的考验，目前两家公司正通过不同工艺全面加速面板全制程的电学稳定性验证。（翻译自The Elec）